預處理必須能夠去除原水中的絕大多數(shù)雜質(zhì)以滿足反滲透進水要求，確保產(chǎn)水水質(zhì)達標、產(chǎn)水量穩(wěn)定、系統(tǒng)回收率長期維持不變、延長反滲透膜使用壽命等。

壓力表：主要設在泵前、泵后、濃水、產(chǎn)水側(cè)，顯示反滲透裝置的運行壓力，根據(jù)壓力數(shù)值判斷膜及濾芯是否堵塞。

水在加熱過程中，由于蒸發(fā)濃縮，水中的金屬陽離子同陰離子結(jié)合在一起，形成水垢附著在受熱面上，水中這些金屬離子的總濃度稱為水的硬度。

超純水廣泛應用于電子芯片、醫(yī)藥生物、精細化工等其他行業(yè)，理論電阻率最高為18.25 MΩ·cm。 在EDI裝置后，通常配備拋光混床作為最終的精處理裝置，設計流速一般為40-60m/h。

在集成電路生產(chǎn)中，超純水主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制，其中包括硅片氧化的水汽源，部分設備的冷卻水，配制電鍍液等。

化工行業(yè)中的純水主要應用于電池溶劑用水、化學分析、化工材料、產(chǎn)品清洗、物質(zhì)的分離、濃縮、提純等產(chǎn)線，純水電導率0.1uS/cm-15uS/cm即可滿足要求。

在純水設備中通過前置預處理裝置，對原水進行初步的過濾，達到反滲透主機的進水要求。

超純水設備采用高精密器件，無易損件，只需按時對設備進行維護保養(yǎng)，就可以增加設備使用時間。

光電產(chǎn)業(yè)超純水設備由石英砂過濾器、活性炭過濾器、軟化器和精密過濾器組成預處理系統(tǒng)，主要設備有反滲透裝置、EDI模塊。傳統(tǒng)的超純水設備采用陰陽混床裝置，如今EDI技術取代了混床的應用。